荷兰阿斯麦（ASML）公司是全球最大的光刻机制造商，也是全球唯一能够给大家提供极紫外（EUV）光刻机的厂商。在EUV光刻机领域，阿斯麦目前处于绝对垄断地位，市占率为100%，处于独家供货的状态。
EUV光刻机是生产5纳米及更高制程芯片的关键设备，由于美国的出口管制，阿斯麦未能向中国出口其最先进的EUV光刻机，这对中国半导体产业的发展构成了一定的挑战。尽管如此，中国仍在积极发展本国的光刻机技术，以减少对外部供应商的依赖。
奥普光电是中国光刻机领域的一个重要参与者，其控制股权的人为长春光学精密机械与物理研究所，其持有奥普光电42.40%的股份。公司在光刻机技术应用方面取得了一系列成就，特别是在深度光刻技术上具有非常明显特色。
1、公司高均匀照明和亚微米高分辨力光刻技术：通过采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应、真空曝光和气浮曝光等技术，实现了高均匀照明和亚微米级别的高分辨力光刻。
2、高准确度双面对准技术：使用底面对准技术，单曝光头可以在一定程度上完成高准确度的双面对准（2.5µm）曝光。
3、大面积高能均匀曝光技术：结合积木错位蝇眼透镜和离轴非球面反射照明技术，实现了大面积（430mm×430mm）、高能（15mW/cm²）、均匀（8%）、冷光（30°C）、平行（1°）曝光。
4、厚胶高准确度对准与套刻技术：采用双焦点对准技术，可以在一定程度上完成厚胶（600m, 侧壁陡度85°）的高准确度对准（0.6µm）与套刻。
公司的URE-2000系列紫外深度光刻机因其技术先进、功能齐全、性能可靠、操作便捷，在深度光刻中具有特色，已经推广应用120余台（套），并且远销国外6台（套），开创了中国光刻机设备出口的先例。
此外，公司控制股权的人旗下的长春光机所在极紫外（EUV）光刻关键技术探讨研究方面也取得了重要进展。2017年，长春光机所的“极紫外光刻关键技术探讨研究”项目通过了国家科技重大专项的验收，标志着中国在极紫外光刻研发技术上向前推进了重要一步。极紫外光刻技术是下一代光刻技术，对于推动集成电路制造技术的发展具备极其重大意义。
公司的技术应用和发展，为其在光刻机领域的持续创新和发展提供了坚实的基础。随技术的慢慢的提升和市场的扩大，我国国产光刻机技术优势在全球光刻机市场中占据一席之地。
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市场出现极端的“一九”行情，或许是不少自己不得不追捧“中字头”“高股息”等板块的原因，未来也许这种极端走势还将延续，大家要多一份耐心。
Omdia预测全球云数据存储服务市场将强劲增长，预计到 2028 年将达到 1,280 亿美元，未来五年的复合年增长率为 17%。
从近五年估值看，公司估值平均值在19倍，当下估值为25.71倍，估值高于均值，处于合理偏高水平。
建议关注券商板块，从当前盘面看，似乎没有券商板块参与，市场难以企稳，且券商板块，当前处于估值底部，板块指数接近5年新低，继续下杀的空间不大。
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7月1日中科磁业拉升20cm涨停。消息面上，《稀土管理条例》近日公布，自2024年10月1日起施行。
这类股一般多是大资金求稳策略下的选择，也不建议普通投入资金的人在历史高位去买这类虽优质但空间小的标的。
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